Functional WATER&PLASMA
提供穩定的表面處理技術及機能水的解決方案
千錘百煉後的品質保障 / 合作共贏的新契機
創發製造 是一家專注於為半導體產業提供先進技術解決方案的科技公司。我們致力於開發和製造 高性能的機能水生成設備和電漿表面處理機,協助客戶提升製程效率.降低成本,並實現更精密的微電子製造。
我們的使命 是通過不斷創新和優化,為半導體產業提供可靠、高效、環保的解決方案,助力客戶在激烈的市場競爭中保持領先地位。
我們的產品
* 超純水/機能水生成設備:
* 採用 離子交換、逆滲透、紫外殺菌等多重淨化技術,生產符合半導體產業嚴格標準的超純水。
* 可根據客戶需求,客製化添加特定離子或調整 pH 值,生產具有 特定功能的機能水。
* 設備智能化程度高,可實時監控水質,並具備自動化維護功能,確保系統穩定運行。
* 電漿表面處理機:
* 提供多種電漿處理技術,可精確控制電漿參數,實現對半導體材料表面的 蝕刻、沉積、改性等多種處理。
* 設備設計緊湊,可與現有半導體生產線無縫整合,提高生產效率。
* 配備先進的監控和診斷系統,確保處理過程的穩定性和可重複性。
我們的優勢
* 深厚的技術積累: 擁有經驗豐富的工程師團隊,深入理解半導體製程需求。
* 卓越的產品性能: 產品性能指標達到國際先進水平, 更高的純度、更精密的處理精度、更低的能耗。
* 全面的客戶服務: 提供從方案設計、設備安裝調試到操作培訓和技術支持的全方位服務。
我們的願景 是成為半導體行業值得信賴的合作夥伴,通過持續的技術創新,為推動半導體產業發展做出貢獻。。
產品項目
等離子表面處理設備
型號:CMF-01-300-PLASMA
功率:220V1000W
機能水生產回收系統
型號:CMF-XR-AquaPro-Industrial-1
功率:220V 1M3/H
超純水生產系統
型號:CMF-XR-UPW-1
功率:220V 0.9M3/H
CO2 bubbler
型號:CMF-XR-CO2-1
功率:220V 1M3/H
電解脫酯水+回收裝置
型號:CMF-XR-ALK-1
功率:220V 1M3/H
超純水+CO2bubbler
型號:CMF-XR-UPWCO2-1
功率:220V 1M3/H
產品DM
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專利證書
產品的優勢
提升材料表面特性
提升材料表面特性:
等離子處理機:利用等離子體中的活性粒子,可以有效地清潔、活化材料表面,提升其潤濕性、附著力等特性,使其更易於進行後續的塗層、黏合、印刷等加工。
機能水生成回收裝置: 配合產生的機能水,電解水,可以強化等離子處理的效果。使用鹼性電解水可以去除油污和雜質,酸性電解水則可以達到殺菌效果,進一步提升材料表面的潔淨度和改質效果
環保永續
等離子處理:屬於乾式製程,無需使用化學溶劑,避免了環境污染和廢液處理問題,符合綠色製造的趨勢。
水回收裝置:可將製程中產生的廢水進行處理和回收再利用,減少水資源消耗和廢水排放,降低對環境的 impact。
應用彈性廣泛
等離子處理機:適用於各種材料,包括金屬、塑膠、玻璃、陶瓷、複合材料等,應用範圍廣泛,橫跨各個產業。
機能水生成回收裝置:可依據不同的需求,調整生成不同功能的水,例如清洗、消毒、抗菌等,應用彈性高,可滿足多元化的製程需求。
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